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    用于透明洁齿产品的沉淀二氧化硅<%=id%>
    004/045504 英 进入国家日期：. 2004.06.28
    专利 代理 机构：.. 上海专利商标事务所有限公司. 代.. 理.. 人：. 周承泽
    .
    . 摘要　.
    .提供一种研磨性无定形沉淀二氧化硅，其研磨性能很好，且有较高透光率，其折射指数充分低，故能用作水含量较高的透明牙膏组合物的一种组分。此二氧化硅的折射指数小于1.4387，透光率大于48％，Brass Einlehner磨损值大于5mg 损失/100,000转。可以用此研磨性无定形二氧化硅制备浊度值小于70的洁齿产品。
    . 主权项 　.
    .
    .

    中国科技资讯网
    .
         

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