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    等离子体处理衬底的设备和方法<%=id%>

    3 英 进入国家日期:. 2006.04.27
    专利 代理 机构:.. 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所. 代.. 理.. 人:. 李春晖
    .
    . 摘要 .
    .提供用于等离子体处理衬底的设备。该设备具有腔体(2)和由在腔体内部流动的一种或多种气体形成等离子体的等离子体产生器 (4),从而产生一个或多个与置于腔体内的衬底(8)相互作用的物种。提供用于将含有物种的气流引导向衬底(8)的引导器(12)。在使用中,等离子体的宽度大于衬底的宽度,某个量通过该量限定离子体的外部区域。引导器适于将来自基本上整个外部区域的物种引导向衬底。也公开了相应的等离子体处理方法。
    . 主权项  .
    .
    .

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    .
         

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