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    半导体基板洗涤剂和洗涤方法<%=id%>


    国. 际. 公. 布:.. 进入国家日期:..
    专利 代理 机构:.. 北京市中咨律师事务所. 代.. 理.. 人:. 段承恩;田 欣
    .
    . 摘要 .
    .本发明涉及含有在分子中具有带有非共享电子对氮原子的化合物形成的,用于表面上施加了铜布线的半导体表面的洗涤剂,以及半导体表面的洗涤方法,其特征在于用该洗涤剂处理表面上施加了铜布线的半导体表面。本发明所涉及的洗涤剂,在表面施加了Cu布线的半导体中,不腐蚀 Cu布线(Cu薄膜),层间绝缘膜SiO2,而且不损坏表面的平坦度,能够有效地除去在Cu-CMP工序附着的半导体表面的CuO和颗粒。
    . 主权项  .
    .
    .

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    .
         

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