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    近场光发生器件的制造方法<%=id%>

    叶市
    发 明 (设计)人:. 平田雅一;大海学;柴田浩一. 国. 际 申 请:..
    国. 际. 公. 布:.. 进入国家日期:..
    专利 代理 机构:.. 中国专利代理(香港)有限公司. 代.. 理.. 人:. 杨松龄
    .
    . 摘要 .
    .提供一种通过较低水平的光刻制造蝶形领结天线的方法,通过在基体上形成蚀刻掩模,形成截头四方形棱锥,掩模的形状类似截头四方形棱锥的顶表面,通过掩模材料制造的蚀刻掩模对基体进行各向同性的蚀刻。其后,通过从各表面的前方沿平行基体的方向注射真空沉积物,在截头四方形棱锥的两个相对的侧表面形成金属薄膜。
    . 主权项  .
    .权利要求书 1.一种制造近场光发生器件的方法,光发生器件具有设置在截头棱锥两个相对侧表面的金属膜,所述棱锥包括顶表面和4个侧表面,所述方法包括步骤: 在基体上形成形状类似于所述顶表面的蚀刻掩模; 通过用掩模材料制成的蚀刻掩模,对基体进行各向同性蚀刻得到截头棱锥; 在所述截头棱锥的两个相对的侧表面形成金属膜。.

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