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    氮化物半导体元件和其制造方法<%=id%>

    4-09-24 PCT/JP2004/014461
    国. 际. 公. 布:. 2005-04-14 WO2005/034301 日 进入国家日期:. 2006.03.27
    专利 代理 机构:.. 中科专利商标代理有限责任公司. 代.. 理.. 人:. 汪惠民
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    . 摘要 .
    .本发明的氮化物半导体元件包括:p型氮化物半导体层、n型氮化物半导体层以及夹持在所述p型氮化物半导体层和所述n型氮化物半导体层之间的激活层。p型氮化物半导体层具有:包含Al和Mg的第一p型氮化物半导体层、包含Mg的第二p型氮化物半导体层。第一p型氮化物半导体层位于所述激活层和所述第二p型氮化物半导体层之间,第二p型氮化物半导体层具有比第一p型氮化物半导体层的能带间隙大的能带间隙。
    . 主权项  .
    .权利要求书 1.一种氮化物半导体元件,包括:p型氮化物半导体层、n型氮化物半导体层以及夹持在所述p型氮化物半导体层和所述n型氮化物半导体层之间的激活层,其中, 所述p型氮化物半导体层具有: 包含Al和Mg的第一p型氮化物半导体层;和 包含Mg的第二p型氮化物半导体层, 所述第一p型氮化物半导体层位于所述激活层和所述第二p型氮化物半导体层之间, 所述第二p型氮化物半导体层具有比所述第一p型氮化物半导体层的能带间隙大的能带间隙。.
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