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			您现在的位置在：  首页>>专利 >>国外专利 光掩膜、掩膜图形的生成方法及半导体器件的制造方法<%=id%> ：.. 国. 际. 公. 布：.. 进入国家日期：.. 专利 代理 机构：.. 中国专利代理(香港)有限公司. 代.. 理.. 人：. 浦柏明;刘宗杰 . . 摘要　. .一种光掩膜，包括：夹持以线状延伸的中央遮光线部(5)从而实质上按照相同线宽并行的一对透光用开口图形(4)；和按照从宽度方向的两侧夹持该一对透光用开口图形(4)的方式进行配置的半透过区域。该半透过区域构成为具有使透过的光与透过透光用开口图形(4)的光相位相同这一性质的同相半透过部(2)。此外，半透过区域由微细到经过光照射而不析像这种程度的间距进行配置的图形构成。 . 主权项 　. . . 中国科技资讯网 .

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