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2006.02.24 专利 代理 机构:.. 中国专利代理(香港)有限公司. 代.. 理.. 人:. 李亚非;陈景峻 . . 摘要 . .光学图像是由多个子照射在辐射敏感层(5)中形成的,在每个子照射中,光阀阵列(21-25)和相应的会聚元件(43)的阵列(40)用于根据子图像图案在抗蚀剂层(5)中形成光点图案。在子照射之间,相对于该阵列(21-25、40)移动抗蚀剂层(5)。透镜阵列(40)可相对于扫描区域倾斜,以使得每个抗蚀剂层区域由多个光点扫描。此外,在垂直于扫描方向的方向上也出现一些光点重叠。通过有选择地降低该冗余光点中的一个或多个光点的强度或者切断所述冗余光点中的一个或多个光点以便改变设备特征的边缘的位置,即“细调”该位置,该光点冗余得到了利用。 . 主权项 . . .
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