|
|
|
|
|
|
用于抗蚀剂的树脂、正性抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法<%=id%> |
|
|
|
JP2004/011735 国. 际. 公. 布:. 2005-02-24 WO2005/016982 日 进入国家日期:. 2006.02.08 专利 代理 机构:.. 中科专利商标代理有限责任公司. 代.. 理.. 人:. 陈长会 . . 摘要 . .一种具有优异的分辨率和景深的正性抗蚀剂组合物,一种用于在所述正性抗蚀剂组合物中使用的抗蚀剂的树脂,以及一种使用所述正性抗蚀剂组合物形成抗蚀剂图案的方法。所述用于抗蚀剂的树脂包括衍生自(α-低级烷基)丙烯酸酯的结构单元(a)作为主要组分,其中这些结构单元(a)包括衍生自含酸可离解的溶解抑制基团的(α-低级烷基)丙烯酸酯以及包含含内酯的单环基团的(α-低级烷基)丙烯酸酯的结构单元(a1),并且所述结构单元 (a1)包括如上所示通式(a1-1)表示的结构单元[其中,R表示氢原子或低级烷基,而R11表示含单环脂肪族烃基但不含多环脂肪族烃基的酸可离解的溶解抑制基团]。 . 主权项 . .1.一种用于抗蚀剂的树脂,其包含作为主要组分的衍生自(α-低级烷基)丙烯酸酯的结构单元(a),其中 所述结构单元(a)包含衍生自含酸可离解的溶解抑制基团的(α-低级烷基)丙烯酸酯的结构单元(a1)、以及衍生自包含含内酯的单环基团的(α-低级烷基)丙烯酸酯的结构单元(a2-1),并且 所述结构单元(a1)包含衍生自(α-低级烷基)丙烯酸酯并且由如下所示通式(a1-1)表示的结构单元(a1-1): 其中,R表示氢原子或低级烷基,而R11表示含单环脂肪族烃基并且不含多环脂肪族烃基的酸可离解的溶解抑制基团。. .
中国科技资讯网
.
|
|
|
|
设为首页 | 加入收藏 | 广告服务 | 友情链接 | 版权申明
Copyriht 2007 - 2008 © 科普之友 All right reserved |