电路设计图案的结构元素几何尺寸的优化方法及其用途<%=id%>

>专利代理机构：.. 中国专利代理(香港)有限公司. 代.. 理.. 人：. 程天正;张志醒
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. 摘要　.
.本发明涉及用于优化图案(22)的结构元素(24)的几何尺寸的方法。首先提供电路设计图案(22)和多个基本图案(30，32)。随后，迭代地将电路设计图案(22)分解为相应的基本图案，以便在存在与基本图案的匹配的情况下对多个结构元素(24)的图案的那些部分进行分类。之后针对在前一步骤中未被分类的图案(22)的那些部分，确定其它的基本图案(34)。在应用用于优化结构元素的几何尺寸的规范之后，将优化的基本图案插入到电路设计中，以便实现光学成像特性的改进。本发明还涉及使用该方法来生产光掩膜(18)。
. 主权项　.
.1、用于改进光学成像特性的、电路设计图案(22)的结构元素的几何尺寸的优化方法，执行以下步骤； -提供以电子方式存储的电路设计图案(22)，该图案(22)包含多个结构元素； -提供多个基本图案，每一基本图案(30)包含特定数目的在特定布置中作为几何图元的结构元素； -迭代地将电路设计图案(22)分解为相应的基本图案，针对每一基本图案(30)渐进地执行以下步骤； (a)为了限定工作区(40)，确定基本图案的几何图元的外部尺寸； (b)限定完全包围工作区(40)的周围区域； (c)比较基本图案与工作区(40)内多个结构元素的图案(22)的部分，并且检查周围区域，以便确定其它结构元素(24)是否位于周围区域(42)内；以及 (d)在存在与基本图案(30)的匹配并且没有结构元素(24)位于周围窗口内的情况下对多个结构元素的图案(22)的那些部分进行分类，在光刻投影的情况下所述周围窗口影响位于工作区(40)内的图案(22) 的那部分； -基于在前一步骤中未被分类的图案的那些部分来确定其它基本图案(30)，以便得到完全被分类的电路设计图案(22)； -应用用于优化基本图案的结构元素(24)的几何尺寸的规范； -为了实现在光刻投影的情况下在把电路设计图案(22)转移到半导体晶片上时改进光学成像特性，把优化的基本图案(30)插入到电路设计内。.
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