用于抗蚀剂的显影剂组合物以及用于形成抗蚀剂图案的方法<%=id%>

01578 英进入国家日期：. 2005.12.22
专利代理机构：.. 中科专利商标代理有限责任公司. 代.. 理.. 人：. 陈长会
.
. 摘要　.
.一种用于抗蚀剂的显影剂组合物，其具有高的溶解速率(高显影灵敏度)。所述用于抗蚀剂的显影剂组合物是这样的一种用于抗蚀剂的显影剂组合物，其包括作为主要组分的有机季铵碱和表面活性剂，所述表面活性剂含有通式(I)表示的阴离子表面活性剂，其中R1和R2中的至少一个表示含5～18个碳原子的烷基或烷氧基，并且任何剩余的基团都表示氢原子，或者表示含5～18个碳原子的烷基或烷氧基，并且R3、R4和R5中的至少一个表示通式(II)所示的基团： -SO3M…(II)，其中M表示金属原子，而且任何剩余的基团都表示氢原子或上述通式(II) 所示的基团。
. 主权项　.
.1.一种用于抗蚀剂的显影剂组合物，其包括作为主要组分的有机季铵碱和表面活性剂，所述表面活性剂含有下面通式(I)表示的阴离子表面活性剂：其中R1和R2中的至少一个基团表示含5～18个碳原子的烷基或烷氧基，并且任何剩余的基团都表示氢原子，或者表示含5～18个碳原子的烷基或烷氧基，并且R3、R4和R5中的至少一个基团表示下面通式(II)所示的基团： -SO3M…(II) 其中M表示金属原子，而且任何剩余的基团都表示氢原子或上述通式(II) 所示的基团。.
.
中国科技资讯网
.

设为首页 | 加入收藏 | 广告服务 | 友情链接 | 版权申明