基板处理装置的恢复方法、恢复程序、及基板处理装置<%=id%>

P 2004-327076
申请(专利权)人：.. 东京毅力科创株式会社.
地......... 址：. 日本东京
发明 (设计)人：. 古家元;田中秀树;大久保智也;小林凉子. 国. 际申请：..
国. 际. 公. 布：.. 进入国家日期：..
专利代理机构：.. 北京纪凯知识产权代理有限公司. 代.. 理.. 人：. 龙淳
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. 摘要　.
.本发明提供一种能够不降低处理装置的工作效率，来进行该装置的异常判定的基板处理装置的恢复方法。加工腔室(P/C)(2)具有腔室(10)，在P/C(2)的维护之后，控制部(57)实施包括将所述腔室 (10)内抽成真空的抽成真空工序、设定所述腔室(10)内温度的温度设定工序、判定所述腔室(10)内有无异常的异常判定工序、和使所述腔室(10)内的气氛与规定的处理条件一致而稳定下来的时效处理工序的自动设置处理，其中，异常判定工序是将对应于所述腔室(10) 内的状态变化而变化的作为装置记录的下部匹配器(19)的阻抗，与正常状态下的下部匹配器(19)的阻抗进行比较。
. 主权项　.
.1.一种具有容器室的基板处理装置的恢复方法，其特征在于，包括：将所述容器室内抽成真空的抽成真空工序；设定所述容器室内温度的温度设定工序；判定所述容器室内有无异常的异常判定工序；和使所述容器室内的气氛与规定的处理条件一致而稳定下来的时效处理工序，其中，所述异常判定工序，测定根据所述容器室内的状态变化而变化的数据中的至少一个数据，将该测定的数据和与所述测定的数据对应的所述容器室内的正常状态的基准数据进行比较。.
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中国科技资讯网
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