用于补偿半导体晶圆制备系统中扫描仪系统计时变化的方法和系统<%=id%>

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国. 际. 公. 布：. 2004-09-23 WO2004/081995 英进入国家日期：. 2005.11.14
专利代理机构：.. 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司. 代.. 理.. 人：. 肖善强
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. 摘要　.
.本发明公开了一种至少包括流水线系统和扫描仪系统的半导体晶圆制备系统，该系统当检测到对扫描仪系统中额定周期的偏离时，通过动态地引入时间延迟来补偿所述偏离。优选地，现有的静态等待状态也引入到晶圆配方中，以降低资源冲突的概率。尽管存在这种偏离，仍保持晶圆流的同步，所以所得半导体晶圆制备系统可以增加晶圆生产量。
. 主权项　.
.1.一种在至少包括流水线系统和扫描仪系统的半导体晶圆制备系统中补偿所述制备系统对额定扫描仪时钟周期的偏离的方法，所述方法包括如下步骤： (a)响应于来自扫描仪系统时钟的信号而操作所述扫描仪系统； (b)响应于来自流水线系统时钟的信号而操作所述流水线系统； (c)预先确定并插入所需要的等待状态，以避免所述半导体晶圆制备系统中的资源冲突；以及 (d)确定对所述扫描仪时钟的额定计时的偏离，并在所述半导体晶圆制备系统中动态地插入所需要的时间延迟以补偿这种偏离。.
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