电光装置、电子装置、以及电光装置的制造方法<%=id%>

明 (设计)人：二村彻
国际申请：
国际公布：
进入国家日期：
专利代理机构：中国专利代理(香港)有限公司
代理人：刘宗杰;叶恺东
摘要
　本发明的课题是，利用光刻技术，防止在透明基板上形成感光性树脂层时发生曝光异常，提供一种能显示显示品位高的图像的电光装置、电子装置、以及电光装置的制造方法。制造反射型或半透射半反射型的电光装置100的TFT阵列基板10时，涂敷了感光性树脂13后，在用吸附卡盘500保持着TFT阵列基板10的背面一侧的状态下，从TFT阵列基板的表面一侧对感光性树脂13进行曝光。这时，在感光性树脂层12的下层形成遮光膜1g，所以透过了TFT阵列基板10的光在吸附卡盘500上反射，能避免吸引孔501的痕迹等被复制在感光性树脂13上等的不良现象的发生。
主权项
　权利要求书 1.一种电光装置，其特征在于：在保持电光物质的透明基板上，有按照规定的配置图形形成了凹凸的感光性树脂层；以及在该感光性树脂层的上层与该感光性树脂层呈平面重叠的区域中形成的光反射膜，在该光反射膜的表面上形成对应于上述感光性树脂层的配置图形的凹凸，在上述透明基板上、且在上述感光性树脂层的下层，至少在与形成上述凹凸的区域呈平面重叠的区域中形成遮光膜。

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