显像装置的环境控制装置及其环境控制方法<%=id%>

国际公布：
进入国家日期：
专利代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：汪惠民
摘要
　显像装置的环境控制装置在晶片处理室中，对曝光了的抗蚀剂膜用显像液进行显像。空气供给装置将从外部取来的空气供给晶片处理室。在空气供给装置中备有从由外部取来的空气中除去化学污染物质的化学污染物质除去装置。
主权项
　权利要求书 1、一种显像装置的环境控制装置，是在晶片处理室中对曝光了的抗蚀剂膜使用显像液进行显像的显像装置的环境控制装置，其备有把从外部取来的空气供给所述晶片处理室的空气供给装置，以及在所述空气供给装置中设置的从所述空气中除去化学污染物质的化学污染物质除去装置。

设为首页 | 加入收藏 | 广告服务 | 友情链接 | 版权申明