恒温处理至少一种处理物体的装置和方法<%=id%>

分类号： H01L31/18;H01L21/324;H01L21/477;C21D9/00
颁证日：
优先权： 1999.10.20 DE 19950575.6
申请(专利权)人：西门子公司
地址：德国慕尼黑
发明 (设计)人： V·普罗布斯特
国际申请： CT/DE00/03719 2000.10.20
国际公布： WO01/29901 德 2001.4.26
进入国家日期： 2002.06.20
专利代理机构：中国专利代理(香港)有限公司
代理人：郑立柱;张志醒
摘要
　本发明涉及到借助于恒温处理单元(6)在至少一种处理气体(4)的确定的处理气氛(111)中恒温处理至少一种处理物体(3)的装置。恒温处理单元有通过处理物体(3)接受能量的至少一个能源(5)，具有在处理气氛(111)中在恒温处理期间存放处理物体的具有恒温处理空间(16)的恒温处理容器(11)，具有一个恒温处理舱(13)，在其中将恒温处理容器(11)安排得与恒温处理舱(13)有一个距离(18)，这样在恒温处理容器(11)和恒温处理舱(13)之间存在一个间隔(14)，和具有一个装置(19)用于在间隔(14)中制造与处理气氛(111)不同的其他气体的其他气氛(141)。其他的气氛有一个压力梯度(2)。借助于装置和方法有可能在处理物体进行处理时使用毒性的和/或腐蚀性的处理气体。特别是因此可以制造太阳能电池和/或太阳能模块的薄膜黄铁矿吸收器。
主权项
　权利要求书 1.在至少一种处理气体的确定的气氛(111)下借助于一个恒温处理单元(6)恒温处理至少一个处理物体(3)的装置，具有 -至少一个能源(5)用于通过处理物体(3)接受一个能量， -一个恒温处理容器(11)具有恒温处理空间(16)用于在恒温处理期间在处理气氛(111)下存放处理物体(3)， -一个恒温处理舱(13)，在其中将恒温处理容器(11)安排得与恒温处理舱(13)有一个距离(18)，这样在恒温处理容器(11)和恒温处理舱(13)之间就存在着一个间隔(14)，和 -一个装置(19，19a)用于在间隔(14)中制造与处理气氛(111) 不同的其他气体的其他气氛(141)，在其中 -其他的气氛有一个压力梯度(2)。

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