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    薄膜检查方法及其装置<%=id%>

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    颁 证 日:
    优 先 权: 2001.10.18 KR 64202/2001
    申请(专利权)人: LG电子株式会社
    地 址: 韩国汉城市
    发 明 (设计)人: 郑富溶;林大铁;金敬玖
    国 际 申 请:
    国 际 公 布:
    进入国家日期:
    专利 代理 机构: 北京市柳沈律师事务所
    代 理 人: 杨梧;马高平
    摘要
      本发明提供薄膜检查方法及其装置,该装置通过使用能够调节从不同角度入射的光的波长和强度的两个以上光源调节干涉强度,即使多种薄膜混合也能够设定最合适的检查条件而得到有充分可靠性的检查结果。其解决手段是,利用有以下构成的光学系统:放置具有不同折射率和厚度的模型的平板;使光照射到所述模型上并可改变光的照射角的照明部;位于所述照明部和所述平板之间并调节入射到所述模型上的光的入射光调节部;识别由所述模型反射的反射光的传感器部;位于所述平板和所述传感器部之间并调节由所述传感器部识别的所述模型的反射光的反射光调节部和控制所述照明部及传感器部移动的控制部。
    主权项
      权利要求书 1.一种薄膜检查方法,其特征在于,由以下阶段构成: 使多个光源从不同的角度照射到形成薄膜的平板上的光照射阶段; 一边使在所述光照射阶段照射的光由薄膜反射,一边由传感器识别产生 干涉的反射光的识别阶段;和 分析在所述识别阶段识别的光并判断薄膜状态的判断阶段。
         

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