相关文章  
  • 一种抗反射膜SiON表面CH4等离子体处理方法
  • 除去有机薄膜的方法和设备
  • 一种降低SiC介电常数的沉积工艺
  • 抗反射膜SiON表面氢等离子体处理方法
  • 深亚微米集成电路Cu阻挡层的制备工艺
  • 化学汽相淀积生成TiN阻挡层的方法
  • 半导体器件的制造方法
  • 半导体衬底、半导体元件及其制造方法
  • 离子注入的方法和设备
  • 晶圆的化学机械研磨方法及其装置
  •   推荐  
      科普之友首页   专利     科普      动物      植物        天文   考古   前沿科技
     您现在的位置在:  首页>>专利 >>专利推广

    半导体器件的制造方法<%=id%>


    分 类 号: H01L21/324
    颁 证 日:
    优 先 权: 1992.6.26 JP 193005/1992;1992.8.27 JP 252295/1992
    申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
    地 址: 日本神奈川县
    发 明 (设计)人: 山崎舜平;张宏勇;石原浩朗
    国 际 申 请:
    国 际 公 布:
    进入国家日期:
    专利 代理 机构: 中国专利代理(香港)有限公司
    代 理 人: 叶恺东
    摘要
      一种制造半导体器件的方法,其特征在于,它包括下列步骤:在整个玻璃衬底上制备多个半导体岛;将所述半导体岛都掺以离子;将具有在一个方向上的细长截面的脉动准分子激光束对准所述玻璃衬底;沿垂直于所述脉动准分子激光束伸长方向的方向移动所述玻璃衬底,从而用所述脉动准分子激光束照射所述半导体岛。
    主权项
      权利要求书 1.一种制造半导体器件的方法,其特征在于,它包括下列步骤: 在整个玻璃衬底上制备多个半导体岛; 将所述半导体岛都掺以离子; 将具有在一个方向上的细长截面的脉动准分子激光束对准所述 玻璃衬底; 沿垂直于所述脉动准分子激光束伸长方向的方向移动所述玻璃 衬底,从而用所述脉动准分子激光束照射所述半导体岛。
         

          设为首页       |       加入收藏       |       广告服务       |       友情链接       |       版权申明      

    Copyriht 2007 - 2008 ©  科普之友 All right reserved