激光退火设备，TFT装置和相应的退火方法<%=id%>

分类号： H01L21/324
颁证日：
优先权： 2001.10.10 JP 312113/2001
申请(专利权)人：株式会社日立制作所
地址：日本东京都
发明 (设计)人：本乡干雄;宇都幸雄;野本峰生;中田俊彦
国际申请：
国际公布：
进入国家日期：
专利代理机构：中国专利代理(香港)有限公司
代理人：罗朋
摘要
　利用物镜集中激光束并且将其辐射到具有1微米或者更小的晶粒大小的非晶硅薄膜或者多晶硅薄膜上，从连续波形激光束开始处理激光束，(1)以便于利用EO调制器使其脉动并且在脉动时具有任意的随着时间的能量变化；(2)利用光束均匀器、具有任意透射率分布的滤波器和矩形狭缝使得具有任意的空间能量分布；和(3)利用高速旋转的漫射器来除去相干性。这样，有可能实现一种液晶显示设备，其中，在TFT面板装置中包含驱动电路，该驱动电路包括具有与单晶体属性基本相同的多晶硅膜。
主权项
　权利要求书 1.一种激光退火设备包括：在支撑样品的状态中可以移动的工作台装置；用于发射激光束的激光束源装置；用于根据时间调制从激光束源装置发射的激光束的能量的调制装置；用于将从激光束源装置发射的所述激光束调整到具有所需的空间能量分布的能量分布调整装置；用于降低从激光束源装置发射的所述激光束的相干性的相干性降低装置；用于将已经通过所述调制装置、所述能量分布调整装置和所述相干性降低装置的激光束投射到所述样品表面的投射光学系统装置。

设为首页 | 加入收藏 | 广告服务 | 友情链接 | 版权申明