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    具有载体的转印式铜箔制造方法<%=id%>


    颁 证 日:
    优 先 权:
    申请(专利权)人: 造利科技股份有限公司
    地 址: 台湾省桃园县中坜市东园路67之1号
    发 明 (设计)人: 柯建信
    国 际 申 请:
    国 际 公 布:
    进入国家日期:
    专利 代理 机构: 上海专利商标事务所
    代 理 人: 任永武
    摘要
      本发明涉及一种具有载体的转印式铜箔制造方法,包括下述步骤:(1)提供一具有一第一表面的载体;(2)对所述第一表面进行清洁及粗化处理;(3)采用物理气相沉积方式使所述第一表面形成一金属介质层;(4)对所述金属介质层表面化学电镀铜以形成一铜箔层;及(5)对所述铜箔层表面进行粗化处理;而借此产出附着于载体上的超薄铜箔。采用本发明的上述方案,可视需要生产超薄的铜箔,而可适用各种规格需求并便于其后蚀刻及穿孔作业,并可直接供应无铜箔电镀设备的厂商使用,而所述铜箔的载具则可减少污染并吸收钻孔作业产生的热量。
    主权项
      权利要求书 1.一种具有载体的转印式铜箔制造方法,其特征在于包括下述步骤: (1)提供一载体,所述载体具有一第一表面; (2)于所述载体的第一表面形成一金属介质层; (3)于所述金属介质层表面化学电镀铜,以形成一附着于所述载体的铜箔层。
         

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