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    等离子聚合系统和等离子聚合方法<%=id%>


    分 类 号: C23C16/54
    颁 证 日:
    优 先 权: 2000.3.10 KR 2000/12101
    申请(专利权)人: LG电子株式会社
    地 址: 韩国汉城
    发 明 (设计)人: 姜成熙;吴定根
    国 际 申 请: CT/KR01/00322 2001.3.2
    国 际 公 布: WO01/66824 英 2001.9.13
    进入国家日期: 2002.09.10
    专利 代理 机构: 中原信达知识产权代理有限责任公司
    代 理 人: 丁业平;王维玉
    摘要
      本发明公开了至少包含一个室的等离子聚合系统。在所述室中产生反应性气体的等离子体而使片材表面聚合之后,向该室中加入氧气和氮气的混合气体以阻止片材聚合性能的恶化。空气可作为混合气体供应。
    主权项
      权利要求书 1.一种等离子聚合方法,所述的方法包含以下步骤: 通过对加入聚合室的反应性气体进行高压放电产生等离子体,使 基材表面聚合;和 通过对所加入的氧气和氮气混合气进行高压放电产生等离子体来 增强基材表面特性,从而保持经前述聚合步骤而淀积有聚合物的基材 的表面特性。
         

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