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    连续和均匀供给面团的装置和方法<%=id%>


    颁 证 日:
    优 先 权: 1995.5.22 JP 148207/95;1995.10.25 JP 301942/95
    申请(专利权)人: 雷恩自动机株式会社
    地 址: 日本枥木县
    发 明 (设计)人: 林虎彦
    国 际 申 请:
    国 际 公 布:
    进入国家日期:
    专利 代理 机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
    代 理 人: 刘志平
    摘要
      连续和均匀供应面团的装置,包括位于面团供应料斗底部的对置辊子。辊子之间的间隙周期改变以避免面团中产生集中的应力。面团通过间隙稳定和连续地排出。和从料斗中连续地供应面团的方法,包括在料斗底部提供对置辊子的步骤,辊子在相反方向驱动和线性运动和/或摆动,以反复地进行挤压运动,在料斗底部可提供几对相对和水平定位的辊子作为挤压装置。
    主权项
      权利要求书 1.用于连续和均匀地供应面团的方法,包括下列步骤:提供至 少一对水平定位的装置,该装置能在相反方向转动并排出面团,其 特征在于:使所述成对装置之间的距离反复地增加和减少,由此, 防止处于成对装置之间位置的面团中的应力增加,并通过成对装 置之间的间隙稳定地排出面团。
         

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