抗反射光学多层薄膜<%=id%>

板最远的层开始算起为第一层、第二层、第三层、第四层及第五层。此多层薄膜包含材料为ITO的第一层、材料为SiO₂的第二层、材料为 O的第三层、材料为SiO₂的第四层及材料为 O的第五层。本发明的抗反射光学多层薄膜具有能屏蔽EMI的良好的导电性、可用作触摸式感测面板材料的高透明度、符合视觉效果的低反射率、抗刮伤特性及低成本。
主权项
　权利要求书 1.一种具有透明导电膜为最外层的抗反射光学多层薄膜，此抗反射光学多层薄膜具有五层结构且在一基板上形成，此5层结构包含由远离基板方向算起之第一层、第二层、第三层、第四层及第五层多层结构；其特征在于该第一层位于该第二层上，为具有高折射率的氧化物，其实体厚度为10-60nm；该第二层位于该第三层上，为具有低折射率的氧化物，其实体厚度为10-70nm；该第三层位于该第四层上，为具有高折射率的氧化物，其实体厚度为30-100nm；该第四层位于该第五层上，为具有低折射率的氧化物，其实体厚度为10-70nm；该第五层位于该基板上，为具有高折射率的氧化物，其实体厚度为10-60nm。

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