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| 所属分类： |
电子微电子 |
项目来源： |
成果推广计划 |
| 技术持有方姓名： |
电子部第四十八研究所 |
所在地域： |
湖南 |
| 是否中介： |
否 |
是否重点项目： |
否 |
技术简介：
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该敏感元件采用离子束溅射淀积成膜技术，优于国内外广泛采用的真空蒸发，电子束蒸发和磁控溅射等传统工艺，使介质隔绝缘性达10（4）MΩ/100V.DC，桥臂电阻值高达2-10KΩ，膜层均匀，成膜成品率高达75%。该敏感元件具有精度高、零点漂移小、稳定性及动态特性好等优点，总测量压力参数的新品种，技术性能指标已达到企业军用标准QJB/UM001-95的要法语，并已成功地用于某战术导弹试车和飞机试验中的压力测量。该技术还可移植到其它薄膜传感器领域，为称量传感器、磁敏传感器、气敏传感器技提供了新的技术方向。
计划了年内推广了3-5家，实施单位投产规模为年产值3000-5000万元，项目实施后，投资利润率可达45%。 |
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