两次曝光全息层析装置<%=id%>

所属分类：	激光	项目来源：	自创
技术持有方姓名：	中国科学院上海光学精密机械研究所	所在地域：	上海
是否中介：	否	是否重点项目：	否
技术简介：	该两次曝光全息层析装置包含He-Ne激光器、扩束望远镜、两块半透半反镜、两块全反镜、旋转工作台、样品、样品室、透镜、接收器CCD和计算机。所述的旋转工作台是能将置于样品室内的样品在0°-180°范围内转动并具有刻度的工作台；所说的He-Ne激光器是一台单横模可见相干光源；所说的扩束望远镜可将He-Ne激光束扩大100倍的光学系统；所述的两块半透半反镜是具有50%反射率和透过率的介质膜镜；所述的全反镜是具有100%反射率的介质膜镜。利用该专利能实时高分辨率地重构物体的三维位相信息空间分布，为研究等离子体、高温炉内温度场分布、脉冲灯内放电状况，以及各种光学样品的检测，提供了一个有力工具。