测有机膜和高分子膜厚度的前处理方法<%=id%>

所属分类：	测量测试	项目来源：	自创
技术持有方姓名：	中国科学院长春应用化学研究所	所在地域：	吉林
是否中介：	否	是否重点项目：	否
技术简介：	目前测量各种膜厚度的方法有很多，但都有各自的局限性，受各种条件的制约，如：X射线衍射测量有机膜和高分子膜厚度时，样品必须是晶体；X射线光电子能谱测量膜的厚度时，受到样品和仪器条件的限制；扫描电镜测量膜的厚度时，受到样品制备的限制；椭偏仪测量膜厚度时，受到标准模型选择的制约。该方法在对纳米级膜的处理中更显出突出的优势。有机膜和高分子膜经过该发明专利提供的方法处理后，避免了目前测量时的各种条件限制，具有非常好的直观性。