新型低温等离子体沉积高质量薄膜材料技术<%=id%>

所属分类：	新型材料	项目来源：	863计划
技术持有方姓名：	兰州大学科学研究处物理技术与工程学院	所在地域：	甘肃
是否中介：	否	是否重点项目：	否
技术简介：	该技术是目前国际上最新型低温等离子体镀膜及材料表面处理技术。其基本原理是通过磁等离子体管的过滤，使阳极弧放电产生的大颗粒粒子，中性粒子都得到限制，而最终获得同一质量、同一能量的离子（其能量可由几十电子伏特到几千电子伏特），进而形成高质量的薄膜材料。例如，在室温下由该技术可以沉积出所谓“非金刚石薄膜”其中的SP3含量可达90%以上。是其它任何技术不可比拟的。国际上已将其用到高级精密透镜表的处理、磁盘面的保护上。由于沉积薄膜都是同一质量和能量的离子所以也可以用于薄膜沉积微观过程基理的研究。对于传统的真空镀膜装置，我们也可以帮助改造成这一最新型的等离子体装置，而且成本很低。这是目前国际上最新型的低温等离子体装置。我们还掌握数项国际专利。国内目前尚无报道。