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| 所属分类： |
新型材料 |
项目来源： |
自创 |
| 技术持有方姓名： |
稀土材料国家工程研究中心 |
所在地域： |
北京 |
| 是否中介： |
否 |
是否重点项目： |
否 |
技术简介：
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稀土磁光靶材是用于制造高密度、大容量、直接重写的磁光盘。磁光盘具有光盘和磁盘的特点。稀土磁光靶材是制作磁光盘的关键材料，通过溅射沉积到盘片上制成的。稀土磁光靶材要求十分严格，相对密度>98%,氧含量<500μg/g，杂质总含量<2000μg/g。稀土磁光靶材和磁光盘市场巨大，前景十分广阔，年增长率30%，预计到2001年磁光盘市场需求量将达到一亿三千万片，需约3250磁疗磁光靶材。 |
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