相关文章  
  • 光纤油膏
  • 光缆阻水油膏
  • 合成高硅比分子 筛生产技术
  • 含肼草酸钇热分解制备大批表面积氧化钇
  • 硅线石选矿提纯技术
  • 硅铁合金炼由炉排放细微SiO(2)尘的增密技术与设备的推广应用
  • 硅酸铝短纤维(耐火纤维)增强铸铝复合材料活塞开发
  • 硅溶胶-水玻璃复合型壳
  • 光致荧光塑料XYS系列新工艺
  • 光致变色防伪纤维生产
  •   推荐  
      科普之友首页   专利     科普      动物      植物        天文   考古   前沿科技
     您现在的位置在:  首页>>专利 >>专利推广

    光-化学蚀刻成型技术与IC多引线框架生产<%=id%>


    所属分类: 新型材料 项目来源: 自创
    技术持有方姓名: 北京清华大学 所在地域: 北京
    是否中介: 否  是否重点项目: 否 
    技术简介:
        集成电路(IC)发展除有芯片的制造外,还要有相应封装配套。引线框架是IC封装中一个关键部件,起到芯片与外部电路连接、支撑芯片以实现其功能的作用。由于IC向多功能、快速、微型化发展,要求其引线框架的引线数多,如:208pin、240pin、304pin等。用光-化学蚀刻成型技术生产引线框架,对多品种、小批量在成本上特别有利,生产加工周期缩短,不需要加工摸具,产品质量好,特别适合生产多引线框架。金属与合金属薄带(小于等于0.2mm)可加工线条间距大于80um的各类零件。
         

          设为首页       |       加入收藏       |       广告服务       |       友情链接       |       版权申明      

    Copyriht 2007 - 2008 ©  科普之友 All right reserved