高质量MgF2X和SiO2和光学薄膜材料<%=id%>

所属分类：	新型材料	项目来源：	自创
技术持有方姓名：	中科院长春光机所	所在地域：	吉林
是否中介：	否	是否重点项目：	否
技术简介：	MgF2和SiO2材料广泛用于光学元件和各类民用眼镜的镀膜，但MgF2崩点已成为光学元件的质量，甚至造成废品因此解决MgF2崩点已成为光学行业十分关注和急待解决的重要技术难题。主要创新在于MgF2由高纯MgF2合成，经真空融熔特殊处理技术获得，其性能超过日本佳能公司和美国CERAC公司产品水平，居领先地位，a-SiO2为结晶态，区别于通过的玻璃态属首创，填补了国内外学薄膜材料的空白。可替代进口的MgF2材料。