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| 所属分类： |
新型材料 |
项目来源： |
自创 |
| 技术持有方姓名： |
武汉大学科技处 |
所在地域： |
湖北 |
| 是否中介： |
否 |
是否重点项目： |
否 |
技术简介：
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武汉大学是国内最早开展氮化碳研究工作的少数单位之一。1994年在世界上首次采用电弧法和化学气相沉积法，成功地制备了大面积均匀的氮化碳薄膜，从而引起国家有关部门和企业及国际上有关专家的高度重视。现已申报了两项国家专利。
我校采用电弧法和CVD法制备大面积均匀的氮化碳镀层，这一方法较目前国外普通采用的物理气相沉积法（激光束，离子束，磁控溅射等）具有设备工艺简单，镀膜速率高，成本低，可对外形复杂工件均匀涂覆等优点，更适合工业应用和产业化要求。氮化碳镀层经有关单位测试，其维氏硬度已达到3000~5000Kgf/mm2。我校基本解决了氮化碳镀层与基底结合的过渡层的材料和工艺，从而使氮化碳镀层与基底有很好的结合强度。我们用麻花钻头镀制氮化碳薄膜，与非镀的麻花钻头做钻孔对照实验，非镀钻头钻36个孔，钻头磨损报废；镀膜钻头钻1500个孔，检查钻头完好无损。这一实验使氮化碳镀膜技术向实用化迈出了重要一步。同时耐热性实验表氮化碳镀层在空气中加热至1200℃，仍保持其稳定性，而金刚石在空气中加热至700℃即燃烧变成CO2。防腐实验表明，氮化碳层在浓硝酸和浓氢氟酸混合液中，有极强的抗腐蚀性。电化学方法测定其抗腐蚀性能比镀铬层高500倍以上。 |
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