|
|
|
|
|
所属分类: |
石油化工及冶金 |
项目来源: |
自创 |
技术持有方姓名: |
河北工业大学 |
所在地域: |
天津 |
是否中介: |
否 |
是否重点项目: |
否 |
技术简介: |
该成果在理论上揭示了单晶抛光片表面悬挂键强力场对周围环境颗粒吸附状态的转化规律,提出了重要的优先吸附数学模型。在此基础上通过大量实验,选择出适于微电子工业应用的FA/O非离子表面活性剂。它是无离子共介键化合物,具有强渗透性,可托起已吸附粒子,在硅单晶片表面具有很好的润湿铺展特性。使用该活性剂,可将抛光片表面物理吸附状态由原来的不足2h,控制到了(100)硅片48h、(111)硅片72h,取得了重大突破。同时确产了控制工艺技术,使工艺简化,成本降低。首次合成了无金属离子、易溶于水、有13个螯合环的新螯合剂,有效控制了自由金属离子在固体表面的富集吸附,采用提高化学作用的方法,有效降低了粗糙度,提高了大规模集成电路衬底硅单晶抛光片的光洁度。现已引进美国、日本生产线和国产生产线上形成了工业规模应用,取得了十分显著的经济效益。
|
|
|
|
|
设为首页 | 加入收藏 | 广告服务 | 友情链接 | 版权申明
Copyriht 2007 - 2008 © 科普之友 All right reserved |