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    微波等离子CVD沉积金刚石薄膜<%=id%>


    所属分类: 铸造 项目来源: 自创
    技术持有方姓名: 武汉理工大学 所在地域: 湖北
    是否中介: 否  是否重点项目: 否 
    技术简介:
    金刚石具有极其优异的力学、电学、热学、声学和光学等性质。其优异的力学性能突出地表现在其硬度在已发现的材料中是最高的,可达到10000kg/m2,加之其摩擦系数非常小(约0.05),因而可用作切削刀具、钻头、轴承、压模、拉丝模、精密量具的涂层等,不仅提高使用寿命,还可提高加工精度。制备金刚石涂层氮化硅刀具,并进行了加工17wt%Si—AL合金和铜合金的切削试用,试用表明金刚石涂层后比涂层前的使用寿命提高8-10倍以上,加工精度明显提高。
    研制成功的具有我国独立知识产权且可精确控制的2450MHz/5KW不锈钢谐振腔型微波等离子CVD装置,该装置性能相当于美国ASTeX公司同类型装置的性能,而自制设备只用了45万元人民币,价格优势明显。随着金刚石膜的广泛应用,设备的需求量将越来越大,独立开发的金刚石涂层氮化硅刀具已成功地进行了试用,开发专用的金刚石膜沉积装置及利用该装置用于开发金刚石涂层刀具及其他种类功能薄膜等,具有良好的经济效益。
         

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