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所属分类: |
生物化学 |
项目来源: |
自创 |
技术持有方姓名: |
HKUST RandD Corp Ltd |
所在地域: |
港澳台 |
是否中介: |
否 |
是否重点项目: |
否 |
技术简介: |
本方法适用于基质水晶钻石的沈积,如矽晶片。一种聚合物(如聚甲基丙烯酸甲酯)用于镭射切除,如ArF受激准分子镭射或钕-钇铝拓榴石镭射。进行镭射切除需要使用活性气体,如氧气和氢氧。需将基质加热到摄氏450度到700度。 适用于应用合成钻石的所有领域。 与化学汽相淀积等离子钻石相比,该技术更加简便,安全,快捷。不需要对氢气和甲烷进行气体处理。
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