可光催化净化空气及杀菌的有机基底双层膜<%=id%>

所属分类：	有机	项目来源：	自创
技术持有方姓名：	中国科学院感学化学研究所	所在地域：	北京
是否中介：	否	是否重点项目：	否
技术简介：	该专利技术为半导体光催化剂技术领域的一项发明，为可光催化净化空气及杀菌的有机基底双层膜及其制法。这种有机基底双层膜的结构是在有机物基底上涂抹惰性氧化物涂层，再在惰性氧化物涂层上涂抹半导体光催化剂涂层。其中惰性氧化物涂层厚度在0.1～100微米，半导体光催化剂涂层厚度为0.1～100微米。其制法是用旋转涂膜法先制备有机物基底表面惰性氧化物涂层，再在上面用旋转涂膜法涂覆半导体涂层，即制得该发明的有机基底双层膜。这种膜能够有效降解表面有机污垢，并对有机物基底没有任何破坏作用。