磁控溅射及多弧镀膜靶材<%=id%>

所属分类：	冶金	项目来源：	自创
技术持有方姓名：	中国科学院金属研究所	所在地域：	辽宁
是否中介：	否	是否重点项目：	否
技术简介：	铬靶主要用于磁控溅射镀茶色玻璃。由于铬的熔点高(约1800℃)，铸造很困难，大多采用粉末烧结法，价格昂贵。研究所采用均质合金特种冶炼技术，用铸造方法批量生产，降低了成本，并保证致密、杂质少、纯度高(＞99.3%)。 Ti-Al合金靶材是多弧离子镀(Ti, Al)N薄膜的核心材料，要求其成分均匀，纯洁度高、致密。（Ti, Al）N薄膜较TiN薄膜具有更好的附着性，硬度HRC＞70，韧性好，使用温度比TiN膜约高200℃，使刀具寿命提高五-六倍，因此该种薄膜在刃具镀膜行业具有广阔的应用前景。主要技术指标： Ti-Al合金靶材的杂质成分控制在C<0.03%，0＜0.5%，H＜0.03％。目前国外广泛应用在汽车内燃机、精密器件的加工工业上的钻头、铣刀、车刀等刃具上，其加工精度高，延长自动生产线上使用时间，提高效率。已批量生产Ti-Al（10，20，30％）合金靶材，并销往美、韩等国。可根据用户对靶材成分、尺寸的不同要求，提供产品。