相关文章  
  • 60万吨/年宽锱分连续重整装置仿真培训系统
  • KS稀土染色助剂
  • 超细活性氧化锌的生产技术
  • 4,4’-联苯双酚
  • 热缩材料用系列胶粘剂
  • 聚氯乙烯木纹膜粘合剂
  • 电视机壳专用改性高抗冲聚苯乙烯树脂
  • 高炉煤气综合利用工程
  • 新型高效提金工艺和成套提金装置
  • 自焙铝电解槽改造创新技术
  •   推荐  
      科普之友首页   专利     科普      动物      植物        天文   考古   前沿科技
     您现在的位置在:  首页>>专利 >>专利推广

    高质量氟化镁和a-二氧化硅光学薄膜材料<%=id%>


    所属分类: 石油化工及冶金 项目来源: 自创
    技术持有方姓名: 中国科学院长春光学精密机械研究所 所在地域: 吉林
    是否中介: 否  是否重点项目: 否 
    技术简介:
    MgF2和a-Sio2材料广泛用于光学元器件和各类民用眼镜的镀膜。但MgF2镀膜崩点问题已严重影响着光学元件的质量,甚至造成废品,因此解决MgF2崩点问题已成为光学行业十分关注和急待解决的重要技术难题,该课题研制出不崩点的高品质MgF2和a-Sio2薄膜材料,并在短期内完成从成果到产品的转化,初步形成规范化小规模生产、工艺技术成熟,产品质量稳定。MgF2和a-Sio2纯度为99.99%,呈白色透明结晶态,蒸发状态好,不崩点。主要创新性在于MgF2由高纯MgF2合成,经真空融熔特殊处理技术获得,其性能超过日本佳能公司和美国CERAC公司的产品水平居领先地位,a-Sio2a为结晶态,区别于通用的玻璃态,属首创,填补了国内外光学薄膜材料的空白。
         

          设为首页       |       加入收藏       |       广告服务       |       友情链接       |       版权申明      

    Copyriht 2007 - 2008 ©  科普之友 All right reserved