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高质量氟化镁和a-二氧化硅光学薄膜材料<%=id%> |
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所属分类: |
石油化工及冶金 |
项目来源: |
自创 |
技术持有方姓名: |
中国科学院长春光学精密机械研究所 |
所在地域: |
吉林 |
是否中介: |
否 |
是否重点项目: |
否 |
技术简介: |
MgF2和a-Sio2材料广泛用于光学元器件和各类民用眼镜的镀膜。但MgF2镀膜崩点问题已严重影响着光学元件的质量,甚至造成废品,因此解决MgF2崩点问题已成为光学行业十分关注和急待解决的重要技术难题,该课题研制出不崩点的高品质MgF2和a-Sio2薄膜材料,并在短期内完成从成果到产品的转化,初步形成规范化小规模生产、工艺技术成熟,产品质量稳定。MgF2和a-Sio2纯度为99.99%,呈白色透明结晶态,蒸发状态好,不崩点。主要创新性在于MgF2由高纯MgF2合成,经真空融熔特殊处理技术获得,其性能超过日本佳能公司和美国CERAC公司的产品水平居领先地位,a-Sio2a为结晶态,区别于通用的玻璃态,属首创,填补了国内外光学薄膜材料的空白。 |
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