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| 所属分类： |
自动化 |
项目来源： |
自创 |
| 技术持有方姓名： |
中国科学院电子学研究所 |
所在地域： |
北京 |
| 是否中介： |
否 |
是否重点项目： |
否 |
技术简介：
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本技术是应用光子对有机物质的光敏氧化作用，达到清洁和去除涂敷在材料表面上的光刻胶目的的装置。经过它处理的材料表面能达到高度的洁净——原子清洁度。该仪表是一种非接触式干法清洁去胶装置。它能够彻底地地去除粘附在物体表面上的包括光刻胶在内的有机物质，获得高度清洁的表面。应用该仪器去胶，无须象普通的湿法去胶那样还要使用擦拭的方法去除面上的残胶，因此，不会由此产生影响产品质量和成品率的表面机械划痕。 |
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