基于模式图的纹理特征表示法<%=id%>

所属分类：	综合其他	项目来源：	自创
技术持有方姓名：	中国科学院自动化研究所	所在地域：	北京
是否中介：	否	是否重点项目：	否
技术简介：	该发明专利是一种基于模式图的纹理特征表示方法。该方法包括的步骤为：对原图像的每个像素取其5×5的领域块b；设有M个反映图像灰度梯度变化的模板，其中，M是大于1的正整数；计算M个模板和b的内积；用内积最大的模板的编号作为这一像素在模式图的输出值。该方法的特征统计量的计算时间比常规方法要短得多，而且去除了图像中光照的影响，只要光照在一定范围内是均匀的，即使在广域上有不同的光照，模式图也不受影响。