低气压层流等离子体喷涂装置<%=id%>

所属分类：	综合其他	项目来源：	自创
技术持有方姓名：	中国科学院力学研究所	所在地域：	北京
是否中介：	否	是否重点项目：	否
技术简介：	该专利是低气压层流等离子体喷涂装置，属于金属材料表面处理设备。该装包括：真空室、等离子体射流发生器、供粉器、电源、气源和冷却水源等。其中的等离子体发生器是层流等离子体射流发生器，在其阳极和阴极之间有一中间段，通过发生器连接机构安装在真空室上并可以径向或轴向移动；真空室的底面安装有旋转、移动多个自由度并能对工件水冷的工件台，工件台和射流发生器之间有挡板机构，真空室与机械真空泵之间有水冷过滤器。该装置功能完善、结构简单、制造费用少、操作便捷，适用于多种构形工件的等离子体喷涂涂层制备、表面改性和处理加工，可获得质地致密、孔隙率低、光洁度高的涂层。