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所属分类: |
综合其他 |
项目来源: |
自创 |
技术持有方姓名: |
上海交通大学 |
所在地域: |
上海 |
是否中介: |
否 |
是否重点项目: |
否 |
技术简介: |
该成果采用深层刻蚀、微电铸和微复制技术(DEM技术),利用感应耦合等离子体进行硅的深层刻蚀后获得硅微结构,并进行微结构侧壁绝缘保护,然后通过微电铸获得金属微复制模具,并在真空下进行模压或注塑,批量生产防伪标记。 该技术具有加工周期短、价格低廉等优点,解决了加工材料的局限性,得到的三维微结构防伪标记,具有高深宽比的特征,技术含量高,不易仿制。 |
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