真空镀膜装置<%=id%>

所属分类：	综合其他	项目来源：	自创
技术持有方姓名：	中国科学院沈阳科学仪器研制中心	所在地域：	辽宁
是否中介：	否	是否重点项目：	否
技术简介：	该实用新型专利是一种真空镀膜装置。它由用步进电机驱动的样品架、靶、离子源、加热源、基片架和安装在真空室外面的机械泵、分子泵组成。其基片架通过行星齿轮组与样品架安装，圆周均布于样品架上方，样品架下设机械定位校准机构，于步进电机之上。步进电机、交流调速电机通过传动轴分别安装在样品架和基片架的绝缘轴套上；基片架和靶之间设有挡板；机械泵和分子泵构成真空室抽气机组。该真空镀膜装置具有镀膜质量好，应用范围广等特点。