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PCVD工业生产设备及模具强化成套技术<%=id%> |
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所属分类: |
综合其他 |
项目来源: |
自创 |
技术持有方姓名: |
西安交通大学 |
所在地域: |
陕西 |
是否中介: |
否 |
是否重点项目: |
否 |
技术简介: |
等离子体增强化学气相沉积(PVCD)技术是在一定温度和气压的真空炉内通入工作气体,产生辉光放电,激活沉积反应,从而在基材表面形成耐磨损、抗氧化的陶瓷涂层。本项目为PCVD工业生产型设备及模具强化成套技术,1999年1月通过了国家教育部组织的技术鉴定,认为该项目在设备总体结构的优化设计、逆变式脉冲直流等离子体技术、脉冲直流PVCD法制备高性能TiN陶瓷涂层和表面强化技术等方面具有创新,设备与工业技术总体达到国际先进水平。该成果在机械、冶金、电子和轻工等大量使用模具的行业中有广阔的应用前景,推广应用可以产生巨大的经济效益和社会效益。例如我国98年模具费用为250亿元,而经PCVD模具强化技术处理后,模具寿命至少提高一倍。按1亿元的市场占有率(2-3模具消耗大户)和10%的技术服务费计算,则每年创产值1000万元,利润2000万元。 |
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