高压脉冲自主等离子体全方位离子注入<%=id%>

所属分类：	综合其他	项目来源：	自创
技术持有方姓名：	大连理工大学	所在地域：	辽宁
是否中介：	否	是否重点项目：	否
技术简介：	本系统根据帕邢放电定律，在低真空条件下，将数万伏负高压脉冲加于待处理的工件上（作为阴极），在特定的气体氛围下，工件表面产生一层致密等离子体与鞘层，在强脉冲场作用下，离子加速向工件表面运动，最终以数万电子伏特的能量注入工件表面，达到表面改性的目的。这种全方位离子注入最主要的特点是：1、鞘层很薄，因而保形特性好，即便是形状相当复杂的工件也可以做到均匀注入；2、不需另行建立等离子体源，因而设备大为简化，易于操作与维护，特别适合在工业上推广应用。