离子源、离子辅助蒸发新工艺及脉冲多弧离子镀<%=id%>

所属分类：	综合其他	项目来源：	自创
技术持有方姓名：	西安工业学院	所在地域：	陕西
是否中介：	否	是否重点项目：	否
技术简介：	本技术可提高膜层的机械强度和激光损伤阈值，耐磨性还能提高3倍以上，在工艺上由于降低了基底温度，从而解决了在高温上不能或者说难以实现的薄膜器件的镀制问题。简化了工艺，缩短了镀制周期，提高了产品合格率。