高分子型六芳基二咪唑光引发剂及其制备方法<%=id%>

. 上海交达专利事务所. 代.. 理.. 人：. 罗荫培
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. 摘要　.
.本发明公开了下式所示的一类高分子型六芳基二咪唑光引发剂及其制备方法。这类光引发剂是以4-氟苯偶酰为原料，经取代反应、环化反应和氧化偶合反应得到高分子型六芳基二咪唑光引发剂。此类光引发剂含有供电子的叔胺侧基，有利于改善六芳基二咪唑类光引发剂的紫外-可见光吸收性能和光引发活性，同时其高分子结构有利于降低光固化后残留的六芳基二咪唑向材料表面的迁移，在光致抗蚀剂、印刷线路版等微电子领域有着广泛的应用前景。式中，n＝5～200，R1、R2、R3、R4和R5分别独立选自氢、卤素、硝基、氰基、含1～3个碳原子的烷基或者含1～3个碳原子的烷氧基，X为二元叔胺基团。
. 主权项　.
.1.一种高分子型六芳基二咪唑光引发剂，其特征在于其化学结构式如下式所示：式中：n＝5～200；R1、R2、R3、R4和R5分别独立选自氢、卤素、硝基、氰基、含1～3个碳原子的烷基或者含1～3个碳原子的烷氧基；X为二元叔胺基团，选自 m＝1～18， m＝1～18， m＝1～18，R6为含有1～3个碳原子的烷基， m＝1～18，R6为含有1～3个碳原子的烷基，或m＝1～18，R6为含有1～3个碳原子的烷基。.
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