用于化学机械抛光的多层抛光垫材料<%=id%>

2004/017564
国. 际. 公. 布：. 2005-01-06 WO2005/000527 英进入国家日期：. 2005.12.15
专利代理机构：.. 北京律盟知识产权代理有限责任公司. 代.. 理.. 人：. 王允方刘国伟
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. 摘要　.
.本发明针对一种用于化学机械抛光的多层抛光垫(10)，其包含一抛光层(12)和一底层(14)，其中所述抛光层和底层未使用一粘合剂而结合在一起。本发明还针对一种包含一光学透射多层抛光垫材料的抛光垫，其中所述抛光垫材料的所述各层未使用一粘合剂而结合在一起。
. 主权项　.
.1.一种用于化学机械抛光的多层抛光垫，其包含一抛光层和一底层，其中所述底层与所述抛光层大体共延伸，且其中所述抛光层和所述底层未使用一粘合剂而结合在一起。.
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中国科技资讯网
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