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一种电光晶体材料半波电压和光学均匀性的测量装置和测量方法<%=id%> |
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际 公 布：
进入国家日期：
专利 代理 机构： 济南三达专利事务所
代 理 人： 孙君
摘要
一种电光晶体材料半波电压和光学均匀性的测量装置和测量方法，具体涉及电光晶体的静态消光比、动态消光比和半波电压的测量。测量装置包括氦氖激光器、起偏器、分光板、全反镜、检偏器、光电二极管、检流计以及直流高压电源，分光板与入射光夹角45°或135°。测量方法是将上下表面涂银电极的被测晶体放置在分光板之后，打开激光器，晶体上未加电压时调整检偏器和起偏器正交或平行，探测到的光强信号分别为I1和I2，I2/I1为静态消光比。加大电压，检流计指示的光强信号至最大时，晶体上所加电压为半波电压，这时的光强信号为I3，I3/I1为动态消光比。本发明可用来测量有旋光性电光晶体材料的静态消光比、动态消光比和半波电压。
主权项
权利要求书 1.一种电光晶体材料半波电压和光学均匀性的测量装置，包括氦氖激光器、起偏器、全反镜、检偏器、光电二极管、检流计以及直流高压电源，其特征是，按光路方向在起偏器之后设一分光板与入射光夹角45°或135°，分光板之后是被测晶体置放位，其后为全反镜，在分光板正下方依此是检偏器、光电二极管和检流计，光电二极管与检流计电连接，其它各部件之间为光关联。
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