|
|
|
|
|
|
|
|
分 类 号：
A61N1/44;A61H33/00;A61H33/06
颁 证 日：
优 先 权：
2001.9.13 JP 277907/2001;2002.1.31 JP 024627/2002
申请(专利权)人：
松下电工株式会社
地 址：
日本大阪府
发 明 (设计)人：
大村真吾
国 际 申 请：
国 际 公 布：
进入国家日期：
专利 代理 机构：
北京集佳专利商标事务所
代 理 人：
王学强
摘要
一种利用负离子以有效果的进行肌肤保养的肌肤保养装置，此装置为一种可对脸部、手腕、手肘、膝盖、头皮等肌肤表面进行保养的肌肤保养装置。此装置具备有负离子产生装置，其中经过负离子产生装置产生的负离子可与肌肤表面的保养无关系或同时进行而放出至肌肤表面。
主权项
权利要求书
1、一种肌肤保养装置，该装置为一种可对脸部、手腕、手肘、
膝盖、头皮等人体肌肤表面进行保养的肌肤保养装置，其特征在于：
该装置包括：
一负离子产生装置，该负离子产生装置可对一针状电极施加高电
压使该针状电极电晕放电而产生负离子；
其中经过该负离子产生装置产生的负离子可与该肌肤表面的保
养无关系或同时进行而放出至该肌肤表面。
|
|
|
|
|
设为首页 | 加入收藏 | 广告服务 | 友情链接 | 版权申明
Copyriht 2007 - 2008 © 科普之友 All right reserved |
