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    沉积制程的工作平台<%=id%>
    hysical vapor deposiTion，PVD)真空反应室；至少一金属有机化学气相沉积(metal-organic chemical vapor deposiTion，MOCVD)真空反应室；以及一无线电波波频(radio frequency，RF)处理反应室；其中RF处理反应室可以取代MOCVD真空反应室的等离子处理制程，以增加工作平台的产量。
    主权项
    　 权利要求书 1.一种沉积制程的工作平台，其特征是：包括有： 一物理气相沉积(physical vapor deposiTion，PVD)真空反应室； 至少一金属有机化学气相沉积(metal-organic chemical vapor deposiTion，MOCVD)真空反应室； 一无线电波波频(radio frequency，RF)处理反应室。
         

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