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    用于X射线装置的抗散射格栅<%=id%>


    颁 证 日:
    优 先 权: 2001.7.28 DE 10136946.8
    申请(专利权)人: 皇家菲利浦电子有限公司
    地 址: 荷兰艾恩德霍芬
    发 明 (设计)人: E·P·A·克洛茨;R·科佩
    国 际 申 请:
    国 际 公 布:
    进入国家日期:
    专利 代理 机构: 中国专利代理(香港)有限公司
    代 理 人: 吴立明;梁永
    摘要
      发明涉及一种用于X射线装置的抗散射格栅以降低待检测物体内产生的散射辐射,该格栅包括多个吸收散射辐射的吸收叠层和对于X射线透明的通道介质,该通道介质布置于吸收叠层之间。特别地,为了简单和精密制造这种抗散射格栅该通道介质,并且使初级辐射尽可能少地衰减而散射辐射尽可能度多地被吸收,按照本发明,采用非弹性高电阻泡沫材料,特别是聚甲基丙烯酰二酰亚胺作为通道介质。本发明还涉及一种例如,用于单光子发射极或正电子发射极的准直器,其中非弹性高电阻泡沫材料还被用作层叠之间的通道介质。
    主权项
      权利要求书 1.一种用于X射线装置的抗散射格栅以降低待检测物体内产生的 散射辐射,该格栅包括多个吸收散射辐射的吸收叠层和对于X射线透 明的通道介质,该通道介质布置于吸收叠层之间,其特征在于:该通 道介质是非弹性高电阻泡沫材料。
         

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